摘要：在现在科学技术水平发展突飞猛进的当下，人们对于光学材料的表面形状精度、粗糙度的要求也越来越高。抛光是可以满足人们生活需要以及国家国防建设的一项技术，而磁流变抛光是近年来出现的一种新型抛光技术，将电磁学、流体动力学理论、分析化学与光学零件加工理论相结合，广泛应用于航空航天、宇宙探测、军事侦察以及激光核聚变等高科技领域以及生活中诸如工件打磨、材料抛光等等的各个部分。

应用磁流变抛光这项技术时，实行全盘的统筹控制十分重要，尤为重要的是实现数据的实时采集以及系统的实时监控。就控制而言一般要实现磁流变抛光设备的工件盘速度控制、磁极单元的恒流闭环控制、磁极单元电流电压及温度的采集等功能。

本课题对磁流变抛光系统控制器的选择进行了方案比较，最终选择了单片机作为控制器，设计了一整套的磁流变抛光控制系统。进行了包括控制器与变频器、恒流源、电压电流温度采集模块之间的硬件接口设计；工件盘速度控制、磁极单元恒流闭环控制、磁极单元电流电压及温度的采集等控制软件的开发；以及工作参数设置、工作状态及数据实时显示、故障报警等触摸屏界面的软件设计。测试、记录、分析控制系统DA电压输出与恒流源电流输出的函数关系，供恒流控制所用。

关键词：磁流变抛光，单片机，恒流控制，触摸屏

目录

摘要

ABSTRACT

第一章  绪论-1

1.1 课题研究的背景及意义-1

1.2 国内外研究现状-2

1.3 论文主要完成的工作-4

第二章  总体方案设计-5

2.1 方案对比与分析-5

2.1.1 PLC系统控制-5

2.1.2 单片机系统控制-5

2.2 系统设计-5

第三章  硬件设计-7

3.1 硬件介绍-7

3.1.1 AT89S52单片机-7

3.1.2 米科-直流电流变送器-8

3.1.3 DAM-3046C温度传感器处理模块-9

3.1.4 三菱D700变频器-11

3.1.5 CSP-3000-120可调恒流源-12

3.2 硬件示意图-13

第四章  软件设计-14

4.1 软件流程-14

4.2 仿真界面一览-16

4.3 软件介绍-18

4.3.1 Keil C51-18

4.3.2 DopSoft触摸屏软件-18

4.3.3 Modbus通讯协议-18

第五章 系统调试-19

5.1 Keil软件的使用-19

5.2Proteus仿真演示-23

5.3 DopSoft界面演示-26

第六章  总结与展望-30

6.1 总结-30

6.2 展望-30

参考文献-31

致  谢-32