摘要：近年来，薄膜材料和薄膜技术获得迅速发展。透明导电薄膜作为功能薄膜中极其特色的一种光电材料，在光电领域拥有广泛的用途。透明导电薄膜的制备方法很多，其中磁控溅射技术具有高速溅射、基板低温、低损伤等优点在薄膜的制备领域有着广泛的应用，所以对透明导电薄膜的磁控溅射制备及其性能的研究无论在理论还是在实际应用上都具有十分重要的现实意义。但在制备过程中也存在一些问题，本文中采用磁控溅射技术，探索不同的实验条件制备薄膜。在前人研究的基础上，介绍了磁控溅射透明导电薄膜的制备以及对其性能进行了进一步的研究。

关键词:  磁控溅射，薄膜技术，薄膜材料，透明导电薄膜

目录

摘要

Abstract

第一章 绪论-3

1.1 透明导电薄膜发展简史-3

1.2 透明导电薄膜材料的研究-4

1.3 柔性透明导电薄膜-7

1.4 本章小结-8

第二章 透明导电薄膜的制备-8

2.1 透明导电薄膜的制备方法概述-8

2.2 磁控溅射原理概述-9

2.3磁控溅射制备柔性透明导电薄膜-11

第三章 实验结果及讨论-12

3.1 薄膜的晶体结构-12

3.2 薄膜的透射率-13

3.3 薄膜导电性能分析-14

3.4本章小结-14

第四章 结论-16

参考文献-17

致谢-19