摘要:近几十年来，薄膜材料和薄膜技术迅速发展起来。各种新型薄膜材料、薄膜生产和微加工技术的创新，在高新技术应用中的各种薄膜也越来越受欢迎。薄膜技术与薄膜材料一直是人们关注的问题，主要是基于薄膜和薄膜技术是实现薄、薄设备和系统集成的有效手 段。磁控溅射技术在薄膜制备领域具有广泛的应用，不同的制备工艺和制备工艺对薄膜样品有重要的影响。利用磁控溅射技术制备金属薄膜的不同实验条件。  

基于CDO的性能优化的透明导电薄膜的制备进行了综述，并对CDO薄膜的光电性能和当前的研究热点进行了讨论。指出采用材料选择、工艺参数设置和多层光整定方法，可以提高透明导电薄膜的综合性能。随着金属元素的添加，以提高性能的方法，如加入：Zn、In等。适当的改进，以满足高技术的需要。 

关键词：磁控溅射；薄膜材料；光电性能

目录

摘要

Abstract

1 引言4

  1.1 透明导电膜的性能  4

  1.2制备透明导电薄膜的方法4

2 透明导电膜的性能5

  2.1 导电薄膜的结构5

  2.2 ITO薄膜的电学性质  5

  2.3 ITO薄膜的光学性质 6

3 透明导电膜的种类6

4 TCO薄膜制备工艺的进展6

  4.1 衬底材料6

  4.2 物理汽相沉积（PVD）7

  4.3 化学汽相沉积（CVD）法7

  4.4 溶胶-凝胶（Sol-Gel）法8

5 透明导电薄膜的研究现状及应用8

  5.1 透明导电薄膜的研究现状8

  5.2 透明导电薄膜的产业化应用10

结论 11

参考文献12

致谢 13